Kristallijn silicium is staalgrijs, amorf silicium is zwart. Niet giftig, smaakloos. D2.33; Smeltpunt 1410℃; Gemiddelde warmtecapaciteit (16 ~ 100℃) 0,1774cal /(g -℃). Kristallijn silicium is een atomair kristal, hard en glanzend, en is typisch voor halfgeleiders. Bij kamertemperatuur is het, naast waterstoffluoride, moeilijk om te reageren met andere stoffen, onoplosbaar in water, salpeterzuur en zoutzuur, oplosbaar in fluorwaterstofzuur en loog. Het kan bij hoge temperaturen worden gecombineerd met zuurstof en andere elementen. Het heeft de kenmerken van hoge hardheid, geen waterabsorptie, hittebestendigheid, zuurbestendigheid, slijtvastheid en verouderingsbestendigheid. Silicium is wijd verspreid in de natuur en bevat ongeveer 27,6% in de aardkorst. Voornamelijk in de vorm van silica en silicaten.
Siliciummetaal zelf is niet giftig voor het menselijk lichaam, maar produceert tijdens het verwerkingsproces fijn siliciumstof en heeft een stimulerend effect op de luchtwegen. Draag geschikte beschermende uitrusting zoals maskers, handschoenen en oogbescherming bij het hanteren van siliciummetaal.
Orale LDso van ratten: 3160 mg/kg. Inademing van hoge concentraties veroorzaakt milde irritatie van de luchtwegen en irriterende stoffen wanneer het als vreemd lichaam in het oog komt. Siliciumpoeder reageert heftig met calcium, cesiumcarbide, chloor, diamantfluoride, fluor, jodiumtrifluoride, mangaantrifluoride, rubidiumcarbide, zilverfluoride, kaliumnatriumlegering. Stof is matig gevaarlijk bij blootstelling aan vlammen of contact met oxidatiemiddelen. Opslaan in een koel, droog en goed geventileerd magazijn. Verwijderd houden van vuur en hitte. De verpakking moet worden verzegeld en mag niet in contact komen met lucht. Moet gescheiden van oxidatiemiddelen worden bewaard en niet worden gemengd.
Bovendien zal siliciummetaal reageren met zuurstof in de lucht om brandbaar gas te produceren, en er moet aandacht aan worden besteed om contact met vuurbronnen of oxidatiemiddelen tijdens opslag en transport te vermijden.
Posttijd: 29 november 2024